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產品名稱:CVD,MOCVD專用(yong)氫(qing)氣發生器(qi)

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更新時間:2022-12-14

產品簡介:CVD(Chemical Vapor Deposition)和(he)MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用(yong)的化學(xue)氣相(xiang)沉(chen)積技(ji)術,用(yong)于制(zhi)備薄膜、涂層和(he)納(na)米材(cai)料等(deng)。

詳細資料:

CVD(Chemical Vapor Deposition)和(he)MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是(shi)兩(liang)種(zhong)常用(yong)的化學(xue)氣相沉積技術,用(yong)于(yu)制備薄(bo)膜、涂層和(he)納米材料等。

CVD是(shi)一種(zhong)通過在(zai)反(fan)應(ying)室內將反(fan)應(ying)物質以氣(qi)(qi)體(ti)形(xing)(xing)式(shi)傳輸并在(zai)襯底表面發生化(hua)學反(fan)應(ying),從而在(zai)襯底上形(xing)(xing)成(cheng)(cheng)所需材料的(de)方(fang)法。該過程涉(she)及到化(hua)學反(fan)應(ying)、氣(qi)(qi)體(ti)輸運和表面擴散等多(duo)個步驟(zou)。在(zai)CVD過程中,通過控制反(fan)應(ying)氣(qi)(qi)體(ti)的(de)組(zu)成(cheng)(cheng)、流速、溫(wen)度(du)和壓(ya)力等參數(shu),可以實(shi)現(xian)對所生長材料的(de)成(cheng)(cheng)分、結(jie)構(gou)和性能(neng)的(de)精確(que)控制。

而MOCVD是一種特殊的CVD技術,主要用(yong)于(yu)生長復雜(za)化合物(wu)薄膜(mo),如(ru)半導體材料、光電(dian)材料等。MOCVD利用(yong)金(jin)(jin)(jin)屬有機前(qian)驅(qu)物(wu)(通常是金(jin)(jin)(jin)屬有機化合物(wu))和載氣(qi)(qi)(如(ru)氫(qing)氣(qi)(qi)、氮氣(qi)(qi))在(zai)高溫條(tiao)件下反應,使金(jin)(jin)(jin)屬有機前(qian)驅(qu)物(wu)分解并釋放金(jin)(jin)(jin)屬原子,然后這(zhe)些金(jin)(jin)(jin)屬原子與載氣(qi)(qi)中的其他氣(qi)(qi)體反應,最終(zhong)在(zai)襯(chen)底表(biao)面形成(cheng)所需(xu)薄膜(mo)。


CVD,MOCVD專(zhuan)用氫(qing)氣發(fa)生(sheng)(sheng)器(qi)(qi)由超純(chun)水機制取二(er)級水,并儲(chu)存至水箱備用。氫(qing)氣發(fa)生(sheng)(sheng)器(qi)(qi)缺水時,自動供給(gei)至氫(qing)氣發(fa)生(sheng)(sheng)器(qi)(qi)。多臺(tai)(tai)氫(qing)氣發(fa)生(sheng)(sheng)器(qi)(qi)可串聯(lian)使用,通過(guo)串聯(lian)控制線由一(yi)臺(tai)(tai)發(fa)生(sheng)(sheng)器(qi)(qi)控制其(qi)他發(fa)生(sheng)(sheng)器(qi)(qi),實現產氣均(jun)勻分配。(以兩臺(tai)(tai)設備為例控制圖如下)


 

CVD,MOCVD專用氫氣(qi)發生器主要特點:

1、儀器的(de)全部工作過程均由程序控制(zhi),自動(dong)恒壓、恒流(liu),通過串(chuan)聯控制(zhi)線,可實現多組并聯使用(yong)。 

2、使用固態電解質(PEM)法產生氫(qing)氣,以(yi)超純凈水原料(liao),以(yi)固體(ti)聚合物為電解質,貴金屬做電極有效的除濕裝置,降低了原始濕度(du),純度(du)穩定。 

3、操作(zuo)方便使用(yong)時只需打開(kai)電(dian)源開(kai)關即可產氫,使用(yong)后無(wu)需泄壓,直(zhi)接關閉電(dian)源即可。可連(lian)續(xu)使用(yong),也可間斷使用(yong),產氫量穩(wen)定不衰減(jian)。 

4、安全(quan)可靠:配(pei)(pei)有安全(quan)裝置(zhi),電解超純水(shui)制氫,無腐蝕、無污染,配(pei)(pei)有壓力(li)控制,缺水(shui)自(zi)(zi)動監控,漏氣自(zi)(zi)動檢測。 

5、配備純水系統,完成自來水進水完成大流量的氫氣制備。

 

CVD,MOCVD專用(yong)氫氣發生器主要參數(shu):

參數(shu)編號 參數名稱 參數值
1 氫氣純(chun)度 99.9999-99.99999%
2 氫氣流(liu)量(liang) 1L-17L/min
3 輸(shu)出壓力(li) 0-80psi(約(yue)0.5MPa)
4 壓力穩定性 0.001MPa
5 供電電源(yuan) 220V±10% 50HZ
6 消耗功率 8kw(HYDROGEN-17L)
7 純水需求 >2MΩ&1L/h
8 氫氣容積 <20L(HYDROGEN-17L)
9 環(huan)境溫度 1-40℃
10 相對濕度 <85%
11 海拔(ba)高度 <2000米
12 外形尺寸 80x90x100(WxDxH cm)(HYDROGEN-17L)
13 凈 重 約200kg(HYDROGEN-17L)

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